國內外相關標準對潔凈室的正壓值都作了規(guī)定。例如美國聯(lián)邦標準FS-209b中規(guī)定潔凈室與任何相鄰的低潔凈度區(qū)域之間的zui小正壓差為13Pa（0.05in水柱）美國宇航局標準NASA NHB 5340.2的規(guī)定值與FS-209b相同。
日本的規(guī)定如下：
不同級別潔凈室之間zui小壓差為5Pa；潔凈室和準潔凈室之間zui小壓差為10Pa；潔凈室和一般房間之間zui小壓差為15Pa。
我國《潔凈廠房設計規(guī)范》(GBJ 73-84)第5.2.1條規(guī)定“潔凈室必須維持一定的正壓。不同等級的潔凈室以及潔凈區(qū)與非潔凈區(qū)之間的靜壓差，應不小于5Pa，潔凈區(qū)與室外的靜壓差，不應小于lOPa。”新規(guī)范GB50073 - 2001有關壓差的規(guī)定與上述規(guī)定一致。
藥品生產管理規(guī)范(GMP)實施指南也有類似的規(guī)定。第2.1.4.2條“壓差”中作了如下說明：“潔凈室必須維持一定的正壓，可通過使送風量大于排風量的辦法達到。不同等級的潔凈室以及潔凈區(qū)與非潔凈區(qū)之間的靜壓差應大于或等于5Pa，潔凈區(qū)與室外的靜壓差應大于或等于lOPa。藥品生產質量管理規(guī)范(1998年修訂)第十六條給出了同樣的壓差規(guī)定，但特別強調“并應有指示壓差的裝置”，以便及時檢查。工藝過程產生大量粉塵、有害物質、易燃易爆物質的工序，其操作室與其他房間或區(qū)域之間應保持相對負壓。”此條后半部分結合了制藥工藝的特點，特別指明某些生產工藝過程產生粉塵及其他有害物質時，維持與其他區(qū)域的相對負壓，防止有害物擴散并污染其他區(qū)域也是壓控制的一個重要方面。
正壓控制的方式如上所述，如能維掎送入室內的空氣量適當地多于機械回風和機械排風量，則可維持室內一定的正壓值。此時，在室內外靜壓差的作用下，通過圍護結構不嚴密處向外滲漏的風量與機械進、出風量的差額相等。問題在于機械進風與出風并不是經調整后就不變化了。對于空調凈化系統(tǒng)來說，新風一送風通路將因過濾器積塵而造成阻力變化，從而影響風量。排風設備可能有開、有停。此外，與樓道、室外相鄰還會因熱壓、風壓的變化影響房間的正壓。
因此潔凈室的正壓值需要經常進行檢查，并依此對新、送、回、排風通路的閥門作出相應的調整。通常這種調整是階段性的，而每時每刻適應機械進、出風量的變化，維持室內正壓的一種機械裝置是余壓閥。通常將余壓閥裝置在潔凈室下風側墻下部，與同風U高度取齊。余壓閥是一個受排風風壓托起的單片閥，鉸鏈或活頁在閥片上方。閥片上有可沿垂直于鉸鏈方向的導捍滑動的重塊。重塊越靠下，其力矩越大需更大的風壓才能把閥片托起。